上海微电子宣布22nm光刻机已研制成功 将利于国内芯片制造业发展

我相信对于“光刻机”，我们非常熟悉了，毕竟，自华为事件爆发以后，已经成为广大用户关注的焦点。特别是对于目前国内的热点话题“国产芯”，光刻是不可缺少的一部分。但对于最先进的光刻设备来说，掌握在少数几个国家手中，关于国产光刻机的信息成为人们关注的着重点。

华为事件告诉我们：芯片不仅需要我们自主研发，还必须拥有自主制造的能力。

原因是直观的。无论一个芯片设计公司有多优秀，如果设计的芯片不能够制造出来，它也仅仅只是一个设计公司。

据俄塔社7月7日报道，上海微电子技术有限公司研发的22nm光刻机再次取得突破，成功打破西方技术垄断。公司采用紫外光源成功实现了22nm工艺，使国内光刻技术进步了一大步。如果光刻技术稳定，能够实现大规模量产，将有利于国内芯片制造业的发展。

研制成功国产22nm光刻机。虽然与荷兰asml5nm工艺还有很大差距，但毕竟差距正在慢慢缩小。而且，与以往国产光刻机技术相比，这次的工艺有很大的进步。目前，世界上最先进的光刻机制造商是ASML、佳能和尼康，占全球份额的99%。上海微电子从低端产品缓慢发展。目前，公司已成为包装和检测设备的领先企业，占全球市场份额的40%。其生产LED等功率器件的光刻机性能也非常领先，在LED光刻领域占据世界第一份额。正是技术的缓慢积累使公司向高端技术迈进。据说该公司还致力于14nm光刻技术。

说到这一点，有人可能会说：“为什么国外的光刻机达到了3nm的水平，而我国只实现了22nm的研发?”其实，对于这个问题，我们应该从中国半导体领域的发展入手。而在光刻技术和制造工艺之上，都集中在几家公司手中。可以说，对于光刻来说，它是全球技术的大师集合。正是在一系列原因的影响之下，也使得我国光刻技术的研发之路变得尤为艰难。22nm光刻机研制的成功也让我们看到了我国光刻机发展的新突破，特别是对于未来中国芯片市场的发展，这无疑是至关重要的一环。

可见，中国在半导体领域取得了新突破。但是，从国际市场形势的变化来看，国内光刻机的研发还有很长的路要走。

小伙伴们，你们对于我们光刻机的发展，有什么想法呢?