2021年11月3日，2020年度国家科学技术奖励大会在北京人民大会堂正式召开。本次大会共颁布“国家最高科学技术奖”、“国家技术发明奖”、“国家自然科学家”、“国家科学技术进步奖”、“国际科学技术合作奖”五大类国家级科学类奖项。公司与何季麟院士团队合作的“平板显示用高性能ITO靶材关键技术及工程化”项目获得国家技术发明奖――二等奖，这是对公司坚持创新，努力突破新材料核心关键技术的最好褒奖和鼓励！
获奖名单（点击图片查看完整获奖名单）
项目面向国家战略需要，聚焦战略新兴平板显示器用关键基础材料研究，创新发明了ITO靶材粉体制备、素坯注浆成形、无压氧气氛烧结 靶坯绑定――关键技术体系，建立ITO靶材制备新型工艺流程，形成了完善的全流程工艺装备体系及控制标准, 实现了ITO靶材粉末冶金技术的创新应用,其技术指标达到了国际先进水平。该技术突破性解决了高性能ITO靶材制备全流程工序的关键技术与装备“卡脖子”问题，形成了完整自主技术体系，实现高端应用由0到1的突破！
背景介绍
ITO――氧化铟锡，主要运用于电视、电脑、平板、手机……每天我们都会接触到的显示屏，就有这么一层看不见却不可或缺的“涂装”。
ITO靶材的核心技术长期把持在日韩大企业手里，我国对ITO靶材拥有很大的需求，每年消耗量超过1000吨，高端部分全部依赖进口，这与我国铟资源大国地位和平板显示产业产能世界第一极不相称。
获奖证书
征程万里风正劲，重任千钧再奋蹄。近年来，公司不断通过实施“繁星计划”，吸纳众多海内外高精尖研究人员，培育了众多“敢于向困难挑战，敢于向问题叫板”的“两敢”领军与骨干人才，前仆后继的投入到行业科创一线，坚实地奠定可持续发展基础，为公司助力中国新材料行业高速发展再添动力！
时间会为我们的努力证明！
硕果会为我们的奋斗高歌！
向每名奋斗在一线的科创人致敬！